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II

蝕刻

Concerning the Art of Etching

蝕刻(Etch)是把光阻顯影出來的圖案「刻」進下層材料的步驟。同時要兼顧 CD、profile、selectivity、defect 四個維度,任何一個飄了 yield 都會跳。conf call 上聽到 RIE、ICP、profile、CD bias 多半是這一段。

這一章什麼時候會用到
M01
Etch Daily Abbreviations蝕刻每天會用到的縮寫
15 個字